納米曝氣設(shè)備的主要特點(diǎn)
發(fā)布時(shí)間：
2023-07-04
納米曝氣設(shè)備又稱納米曝光設(shè)備，主要特點(diǎn)： 一、尺寸小、操作方便?！ 〔僮髅姘逍∏?，操作簡單。通過整機(jī)集成化，體積小巧，便于移動。 二、清潔度高?！ ≌麢C(jī)清潔度≥100000.能有效除去微塵顆粒，做到空氣清潔?！ ∪⒛芰糠秶鷱V。 單個(gè)光束波長范圍為193~400nm之間，覆蓋UV光、可見光和近紅外光三個(gè)能量范圍。 四、散佈均勻?！ 〔捎媒惶骈W光方式，照射能量分布在不同點(diǎn)，覆蓋區(qū)域面積更大，做到散佈均勻?！ ∥?、精度高、線寬窄。 照射線寬可達(dá)到40微米以下，照射的精度在2微米量級?！ ×⒐δ荦R全?！ ∨涮锥〞r(shí)器、震動模塊、自動搬移模塊等，納米曝光的各種要求。 七、效率高?！ ±瞄]環(huán)準(zhǔn)直系統(tǒng)，實(shí)時(shí)校正照射位置和姿態(tài)，提高曝光效率?！ “?、快速響應(yīng)?！ №憫?yīng)速度短，照射和移動速度快?！ 【拧勖L?！ 〔捎酶咂焚|(zhì)零件和組件，結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)精密，使用壽命長?！ 【C上，作為一種高精度的
納米曝氣設(shè)備又稱納米曝光設(shè)備，主要特點(diǎn)：
一、尺寸小、操作方便。
操作面板小巧，操作簡單。通過整機(jī)集成化，體積小巧，便于移動。
二、清潔度高。
整機(jī)清潔度≥100000.能有效除去微塵顆粒，做到空氣清潔。
三、能量范圍廣。
單個(gè)光束波長范圍為193~400nm之間，覆蓋UV光、可見光和近紅外光三個(gè)能量范圍。
四、散佈均勻。
采用交替閃光方式，照射能量分布在不同點(diǎn)，覆蓋區(qū)域面積更大，做到散佈均勻。
五、精度高、線寬窄。
照射線寬可達(dá)到40微米以下，照射的精度在2微米量級。
六、功能齊全。
配套定時(shí)器、震動模塊、自動搬移模塊等，納米曝光的各種要求。
七、效率高。
利用閉環(huán)準(zhǔn)直系統(tǒng)，實(shí)時(shí)校正照射位置和姿態(tài)，提高曝光效率。
八、快速響應(yīng)。
響應(yīng)速度短，照射和移動速度快。
九、壽命長。
采用高品質(zhì)零件和組件，結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)精密，使用壽命長。
綜上，作為一種高精度的納米工藝裝備，納米曝氣設(shè)備廣泛應(yīng)用于電子元器件制造、光學(xué)元件制造、生物醫(yī)用器械制造等領(lǐng)域的納米工藝工序。其高清潔、高精度、高效率的特點(diǎn)，使其有望逐步替代傳統(tǒng)的光刻曝光設(shè)備，在光刻領(lǐng)域開啟一個(gè)新紀(jì)元。
關(guān)鍵字：沼氣濕法脫硫,河道治理菌劑,工業(yè)廢水處理,
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